Технология полупроводниковых приборов и изделий...

Main
Technique - Industrial Equipment and Technology
Технология полупроводниковых приборов и...

Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники [Учеб. пособие для ПТУ, В 10 кн.] Кн. 8 Литографические процессы

В.В. Мартынов, Т.Е. Базарова

0 / 0

Колко ви харесва тази книга?

Какво е качеството на файла?

Изтеглете книгата за оценка на качеството

Какво е качеството на изтеглените файлове?

Категории:

Technique - Industrial Equipment and Technology

Том:

Том 08

Година:

1990

Издателство:

Высш. шк.

Език:

russian

Страници:

129

ISBN 10:

5060010805

ISBN 13:

9785060010800

Файл:

DJVU, 1.62 MB

IPFS:

,

russian, 1990

Четете Онлайн

Изтегляне (djvu, 1.62 MB)

Преобразуването в се извършва

Преобразуването в е неуспешно

Може да се интересувате от

С.Н. Никифорова-Денисова — Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. Механическая и химическая обработка

Деркач В. П. — Методы повышения параметров БИС

Лаврова, Л. К. — Электронное учебно-методическое пособие по учебной дисциплине "Технология и оборудование литографических процессов" для специальности 2-41 01 31 "Микроэлектроника"

Лаврищев В.П. (ред) — Введение в фотолитографию.

Богомазова, Наталья Валентиновна — Технология полупроводников

Кувшинов, А. М. — Наноэлектроника

Жигальский А.А. — Проектирование и конструирование интегральных микросхем.

Романовский М.Н. — Интегральные устройства радиоэлектроники. Часть 1. Основные структуры полупроводниковых интегральных схем

Н. В. Жданова — Микроэлектроника: учебное пособие. Специальность 210100.62 – Электроника и наноэлектроника

Б.Беднарж, А.В.Ельцов, Я.Заховал, Я.Краличек, Т.А.Юрре. Под редакцией А.В.Ельцова. — Светочувствительные полимерные материалы

Пресс Ф.П. — Фотолитографические методы в технологии полупроводниковых приборов и интегральных микросхем

Дж.Р.Брюэр, Д.С.Гринич, Д.Р.Херриот, Р.К.Хендерсон, Дж.П.Балантайн, Ж.Тротель, Б.Фэй. Под ред. Дж.Р.Брюэра. Перевод с английского В.В.Копицына и А.Н.Маркова. — Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов

О. В. Семенова. — Проектирование и технология электронной компонентной базы. Конструирование и технология интегральных схем

Ануфриев Л.П., Бордусов С.В. — Технология интегральной электроники

Третьяков С.Д. — Современные технологии производства радиоэлектронной аппаратуры

Ануфриев Л.П., Бордусов С.В. и др. — Технология интегральной электроники

Валетов В.А. — Основы производства радиоэлектронной аппаратуры

Романовский М.Н. — Интегральные устройства радиоэлектроники. Часть 1. Основные структуры полупроводниковых интегральных схем

Лапшинов Б.А. — Технология литографических процессов

— Процессы микро - и нанотехнологии

Зеленцов С.В., Зеленцова Н.В. — Современная фотолитография

Ильин В.А.,Терешкин В.А. — Прогрессивная технология изготовления печатных плат

Знаменская Т.Д. — Лекции по конструкторско-технологическому обеспечению

Барбарош С.С. — Литография высокого разрешения в технологии полупроводников

Барбарош С.С. — Реферат - Радиационные методы литографии

Данилина Т.И., Смирнова К.И. и др. — Процессы Микро и Нанотехнологии

Скоробогатова Л.А., Зубрицкий С.М., Петров А.Л., Семёнов А.Л. — Технологии материалов для микро - и наноэлектроники

Рыжиков И.В. — Лекции по технологии микро-электронных устройств

Данилина Т.И. — Технология тонкопленочных микросхем

Меркулов А.И., Меркулов В.А. — Конструирование интегральных микросхем

Жданова Наталья Владимировна — Микроэлектроника

Филяк М. М. — Конструктивно-технологические основы микроэлектроники

Третьяков С.Д — Современные технологии производства радиоэлектронной аппаратуры. Учебное пособие

Валетов В — Основы производства радиоэлектронной аппаратуры / Учебное пособие.

Меркулов А. И. — Конструирование интегральных микросхем [Электронный ресурс] : электрон. учеб. пособие

сост. О. В. Семенова. — Интегральные устройства радиоэлектроники. Технология микросхем и микропроцессоров

Най-често използвани термини

фоторезиста

изображения

элементов

подложки

фотолитографии

травления

размеров

проявления

фотошаблонов

подложек

совмещения

излучения

экспонирования

фотошаблона

поверхности

фоторезистов

элемента

изготовления

полупроводниковых

подложке

фотошаблон

точность

способность

электронов

актиничного

контроля

подложка

литографии

контроль

используют

проекционной

процесса

экспонировании

качестве

установки

электронно

являются

дефектов

обработки

переноса

зависимости

мультипликации

подложку